目前台系砷化鎵(GaAs)晶圓代工廠多耕耘 HBT(Heterojunction Bipolar Transistor)以及 pHEMT (Pseudomorphic High Electron Mobility Transistor)製程。砷化鎵HBT的特性在於線性度與高電流增益,具功率放大倍率佳、待機耗電流低、低相位雜訊、單電源設計、體積小等特色。而主 要應用端含蓋手機、無線網路、藍芽、基地台、光纖通訊、衛星通訊等。另外,pHEMT其優點則包含有超高頻(高頻操作可達100G
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